J. Guo., X. Liu., and Y. Cheng., “Size Controllable Synthesis of Monodispersed Colloidal Silica Nanoparticles via Hydrolysis of Elemental Silicon”, Journal of Colloida and Interface Science, pages (138-142), 2008. 9- T. Matsoukas., and E. Gulari., “Monomeraddition growth with a slow initiation step: A growth model for silica particles from alkoxides”, Journal Colloid Interface Science, Vol. 132 (1), pages (13–21), 1988.
10- I.A. Rahman., P. Vejayakumaran., and C.S. Sipaut., “Effect of Anion Electrolytes on the Formation of Silica Nanoparticles via the Sol–Gel Process”, Ceramic International, Vol. 32 (6), pages (691–699), 2000.
پیوستها منابع
D.L. Green., and J.S. Lin., “Size, Volume Fraction and Nucleation of Stober Silica Nanoparticles”, Journal of Colloidal and Interface Science 266, pages (346-358), 2003.
I.A. Rahman., “An Optimized sol-gel Synthesis of Stable Primary Equivalent Silica Particles”, Colloid and Surfaces A: Physicochem.Eng.Aspects 294, pages (102100), 2007.
K.D. Kim., and H.T. Kim., “New Process for the Preparation of Monodispersed
Spherical Silica Particles”, Journal American Ceramic Society, Vol.85, NO.5, pages (11071113), 2002.
I.A. Rahman., P. Vejayakumaram., and C.S. Sipaut., “Effect of Drying Techniques on the Morphology of Silica Nanoparticles Synthesized via Sol-Gel Process”, Ceramic International, 2007.
H.E. Bergana., and W.O. Roberts., Colloidal Silica Fundamentals and Applications, CRC press, pages (237-241, 637-640). 2006.
242848792911

جدول 1- محدوده قابل قبول نسبت مولی برای TEOSH2O و (EtTEOS(OH و نسبت مولی انتخاب شده 3TEOSNH

در این پژوهش.
کد نمونه ها
نسبت مولی N0 N1 N2 N3
H2O

TEOS 5-34 Et(OH)

TEOS 6-60 NH3

در این سایت فقط تکه هایی از این مطلب با شماره بندی انتهای صفحه درج می شود که ممکن است هنگام انتقال از فایل ورد به داخل سایت کلمات به هم بریزد یا شکل ها درج نشود

شما می توانید تکه های دیگری از این مطلب را با جستجو در همین سایت بخوانید

ولی برای دانلود فایل اصلی با فرمت ورد حاوی تمامی قسمت ها با منابع کامل

اینجا کلیک کنید

TEOS 0 2-3 3-4 4-5

شکل 1- مراحل فرآیند سنتز نانوذرات کروی کاملا ثراکنده سیلیس.

شکل 2- تصویر SEM از لایهی ترک خوردهی سیلیس ناشی از فرآیند سنتز بدون واکنشگر (آمونیاک) با نسبت ترکیب شیمیایی N0.

10
µm
10
µm


پاسخ دهید